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2025年国内细分市场占有率达16.07%,位列全国第一,稳居半导体引线框架制造及设备开发行业龙头地位。
由2位国家级人才博士牵头55人研发团队,建立省级工程技术中心与外专工作室,累计获授权专利142件,含发明专利32项及PCT专利3项。
国际首创晶圆化学镀钨/铑合金溶液,独创脉冲逆向电解与散花式喷射技术,解决镀层不均匀、致密性差等难题,填补国内技术空白。
深度集成ERP、OA、CAD及三维模具数据库,打造全数字化电镀研发平台,实现产品研发与生产数据全流程可视化贯通。
2022年参与修订1项国家标准,荣获中国表面工程协会科学技术三等奖,主导并推动行业技术规范与质量标准制定。
通过武器装备质量管理体系认证,核心产品技术指标达国际领先水平,广泛适配半导体、光电显示、航空航天等高精尖领域需求。
设备加工精度突破±0.02毫米,镀区横纵向精度提升至±3.5mil,膜厚误差率控制在10%以内,满足芯片微间距严苛要求。
创新电镀工艺使处理时间缩短6倍以上,生产效率提升20%,整体能耗大幅降低40%,显著优化客户长期运营成本。
独创表面处理技术使半导体表面粗糙度可控至Ra0.2μm,产品成品率高达97%,材料损耗严格控制在5%以内。
率先构建全球首个电镀数字孪生系统,实现工艺波动预判精度高达99.5%,保障生产全流程稳定与零差错运行。
首创高致密性镀层溶液具备强抗腐蚀性与优异致密性能,有效提升晶圆及器件信号传输稳定性,降低功率损耗。
掌握0.15毫米超精密电镀技术,可针对芯片连接器微间距等特种工况灵活定制,全面适配复杂生产场景需求。